ИННОВАЦИИ БИЗНЕСУ

"Результат выполнения технологической разработки".

Установка включает источник питания, собранный в корпусе размером 420х220х600 мм и механизм вращения электрода при гальваническом натирании. Источник питания ассимитричным током (рис.1) состоит из силового блока (рис.1в) и блока управления (рис.1а).Силовой блок имеет трансформатор Т2 и два тиристора v15,v16. Амперметры А2 и А3 служит для контроля величины тока в каждом тиристоре. Блок управления служит для регулирования тока в тиристорах v15 и v16 силового блока. Каждый тиристор управляется своим током: v15-блоком Б1,v16-аналогичным блоком Б2. В основу метода управления тиристорами положен фазовый метод. Сдвиг фазы управляющего напряжения создается элементами схемы l1,c1,r1.Транзисторы v2,v3 служат для усиления тока в управляющем электроде тиристора. Источник питания усилителя включает вторичную обмотку трансформатора Т1, диодный мост v4-v7, конденсатор С3. Технологический процесс электронатирания металлов дан на примере нанесения цинка, который рекомендуется применять для восстановления изношенных посадочных отверстий стальных и чугунных корпусных деталей. Технологический процесс включает следующие операции:

1. Механическая обработка детали (если требуется) для придания восстанавливаемой поверхности правильной геометрической формы и требуемой шероховатости.

2. Обезжиривание натираемой поверхности любым обезжиривающим веществом (ацетоном, бензином, каустической содой и др.).

3. Промывание водой.

4. Крепление детали на установку для восстановления.

5. Анодное травление. Производится в электролите наращивания металла покрытия. При использовании переменного ассимитричного тока катодный ток равен нулю. Плотность анодного тока 1...1,5 А/см ² поверхности контакта электродов. Скорость относительного перемещения электродов 10...12 м/мин. Время травления 5.-.7 секунд.

6.Нанесение покрытия. Последовательность действий следующая: уменьшить плотность анодного тока до 0,15 А/см ²; установить плотность катодного тока также 0,15 А/см ²; выдержать данный режим 10 секунд. Затем с увеличением катодного тока с интервалом 10 секунд установить параметр в=2,4,6,8,10 и при в=10 провести наращивание слоя цинка требуемой толщины. Скорость относительного перемещения электродов постоянная 10.-.12 м/мин. Электролит нанесения цинковых покрытий: сульфат цинка - 600 г/л; борная кислота-30 г/л, кислотность ph-3,5. Кислотность раствора до требуемой прибавлением в него серной кислоты.

7.Промывание водой.

8.Механическая обработка (если требуется).